1-(4-丁(ding)氧(yang)基(ji)-1-萘(nai)基(ji)）四(si)氫(qing)噻(sai)吩(fen)硫(liu)鎓全(quan)氟(fu)丁(ding)磺(huang)酸(suan)鹽(yan)
- 型(xing)號(hao)：可(ke)以(yi)分(fen)裝(zhuang)
- 價(jia)格(ge)： ￥100/克(kei)
- 發(fa)布(bu)日(ri)期(qi)： 2026-11-04
- 更(geng)新(xin)日(ri)期(qi)： 2026-11-05
產(chan)品(pin)詳(xiang)請(qing)
| 產(chan)地(de) |
湖(hu)北(bei)
|
| 貨(huo)號(hao) |
shuer2114
|
| 品(pin)牌(pai) |
曙(shu)爾(er)
|
| 用(yong)途(tu) |
中(zhong)間(jian)體(ti)材(cai)料(liao)
|
| 包(bao)裝(zhuang)規(gui)格(ge) |
可(ke)以(yi)分(fen)裝(zhuang)
|
| CAS編(bian)號(hao) |
|
| 純(chun)度(duo) |
99%
|
| 別(bie)名(ming) |
1-(4-丁(ding)氧(yang)基(ji)-1-萘(nai)基(ji)）四(si)氫(qing)噻(sai)吩(fen)硫(liu)鎓全(quan)氟(fu)丁(ding)磺(huang)酸(suan)鹽(yan)
|
| 包(bao)裝(zhuang) |
氟(fu)化(hua)瓶(ping)包(bao)裝(zhuang)
|
| 級(ji)別(bie) |
其(qi)他(ta)
|
中(zhong)文(wen)同(tong)義(yi)詞(ci)DYPR0358;1-(4-丁(ding)氧(yang)基(ji)-1-萘(nai)基(ji))四(si)氫(qing)-1H-噻(sai)吩(fen)-1-鎓-1,1,2,2,3,3,4,4,4-壬(ren)氟(fu)丁(ding)烷(wan)-1-磺(huang)酸(suan)鹽(yan);1-(4-丁(ding)氧(yang)基(ji)-1-萘(nai)基(ji))四(si)氫(qing)噻(sai)吩(fen)硫(liu)鎓全(quan)氟(fu)丁(ding)磺(huang)酸(suan)鹽(yan);1-(4-丁(ding)氧(yang)基(ji)-1-萘(nai)基(ji))四(si)氫(qing)-1H-噻(sai)吩(fen)-1-鎓:全(quan)氟(fu)丁(ding)基(ji)磺(huang)酸(suan)鹽(yan)(1:1);1-(4-丁(ding)氧(yang)基(ji)-1-萘(nai)基(ji))四(si)氫(qing)-1H-噻(sai)吩(fen)-1-鎓:全(quan)氟(fu)丁(ding)基(ji)磺(huang)酸(suan)鹽(yan);1-(4-丁(ding)氧(yang)基(ji)萘(nai)-1-基(ji))四(si)氫(qing)-1H-噻(sai)吩(fen)-1-陽(yang)離(li)子(zi)1,1,2,2,3,3,4,4,4-九(jiu)氟(fu)丁(ding)烷(wan)-1-磺(huang)酸(suan)鹽(yan)
英(ying)文(wen)名(ming)稱(chen)1-(4-Butoxy-1-naphthalenyl)tetrahydro-thiopheniumsaltwith1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluoro-1-butanesulfonicacid(1:1)
CAS號(hao)209482-18-8
分(fen)子(zi)式(shi)C22H23F9O4S2
分(fen)子(zi)量(liang)586.53
CAS：209482‑18‑8，分(fen)子(zi)式(shi)C22H23F9O4S2，分(fen)子(zi)量(liang) 586.53，屬(zhu)於(yu)硫(liu)鎓鹽(yan)類(lei)光(guang)致(zhi)產(chan)酸(suan)劑(ji)（PAG），是(shi) ArF 光(guang)刻(ke)膠(jiao)主(zhu)流(liu)專(zhuan)用(yong)產(chan)酸(suan)劑(ji)之(zhi)一(yi)。常(chang)溫(wen)多(duo)為(wei)白(bai)色(shai)至(zhi)淺(jian)米(mi)色(shai)固(gu)體(ti)粉(fen)末(mo)，可(ke)溶(rong)於(yu) PGMEA、環(huan)己(ji)酮(tong)、乙(zhe)腈(jing)等(deng)光(guang)刻(ke)常(chang)用(yong)溶(rong)劑(ji)，難(nan)溶(rong)於(yu)水(shui)；熱(re)穩(wen)定(ding)性(xing)較(jiao)好(hao)，適(kuo)合(ge)光(guang)刻(ke)膠(jiao)烘(hong)烤(kao)工(gong)藝(yi)，需(xu)2–8℃避(bi)光(guang)密(mi)封(feng)儲(chu)存(cun)，見(xian)光(guang)易(yi)分(fen)解(xie)產(chan)酸(suan)。
分(fen)子(zi)由(you)萘(nai)基(ji)取(qu)代(dai)四(si)氫(qing)噻(sai)吩(fen)硫(liu)鎓陽(yang)離(li)子(zi) + 全(quan)氟(fu)丁(ding)磺(huang)酸(suan)根(gen)陰(yin)離(li)子(zi)構(gou)成(cheng)，萘(nai)環(huan)帶(dai)來(lai)長(zhang)波(bo)吸(xi)收(shou)，相(xiang)比(bi)普(pu)通(tong)三(san)芳(fang)基(ji)硫(liu)鎓，吸(xi)光(guang)性(xing)能(neng)更(geng)適(kuo)配(pei) DUV 曝(pu)光(guang)；曝(pu)光(guang)後(hou) C-S 鍵(jian)斷(duan)裂(lie)，釋(shi)放(fang)全(quan)氟(fu)丁(ding)磺(huang)酸(suan)（PFBS），酸(suan)強(jiang)度(duo)適(kuo)中(zhong)、擴(kuo)散(san)可(ke)控(kong)，可(ke)催(cui)化(hua)光(guang)刻(ke)膠(jiao)樹(shu)脂(zhi)脫(tuo)保(bao)護(hu)，實(shi)現(xian)高(gao)分(fen)辨(bian)圖(tu)案(an)成(cheng)型(xing)。
核(he)心(xin)用(yong)途(tu)：ArF 幹(gan)法(fa) / 濕(shi)法(fa)光(guang)刻(ke)膠(jiao)、底(di)部(bu)抗(kang)反(fan)射(she)塗(tu)層(ceng)（BARC）、離(li)子(zi)注(zhu)入(ru)光(guang)刻(ke)材(cai)料(liao)，用(yong)於(yu)半(ban)導(dao)體(ti)晶(jing)圓(yuan)微(wei)納(na)圖(tu)案(an)製(zhi)備(bei)；也(ye)少(shao)量(liang)用(yong)於(yu)高(gao)端(duan)陽(yang)離(li)子(zi)光(guang)固(gu)化(hua)體(ti)係(ji)。
